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    產品詳細頁
    密真空氣氛爐

    簡要描述:密真空氣氛爐廣泛用于高校、科研院所、工礦企業等做粉末、電子、冶金、醫藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結和金屬熱處理等實驗和生產理想設備。

    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2025-11-10
    • 訪  問  量:1772

    產品介紹

    品牌中奧菲達升溫速度(達到最高溫)60/min
    內部尺寸300-200-120mm加熱方式硅碳棒
    最大功率4000kW控溫精度1℃
    最高溫度1400℃價格區間1萬-2萬
    儀器種類真空爐產地類別國產
    應用領域醫療衛生,環保,生物產業,綜合

    適用范圍
          本設備廣泛用于高校、科研院所、工礦企業等做粉末、電子、冶金、醫藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結和金屬熱處理等實驗和生產理想設備。

     
    密真空氣氛爐真空氣氛系統:
          真空密封系統采用特種設計技術,具有操作安全、方便、真空度高,密封性好,真空保持時間長,密封采用不銹鋼金屬法蘭及O型耐高溫氟膠圈密封,氣體經過流量計后由針型閥開關進入爐管內,閥控配有進氣閥,排氣、抽真空閥。減壓閥,安全閥,可通多種氣體、氬氣、氮氣、氧氣、氧化碳、氨分解氣等氣體,可充入高壓氣體,氣氛壓力限值0.1MPa,采用*的密封技術,可長時間保壓,安全性能好,操作方便。


    密真空氣氛爐主要技術參數:

    項  目

    單位

    有效使用尺寸

    有效使用尺寸

    有效使用尺寸

    有效使用尺寸

    爐膛尺寸

       mm

    200X150X150

    300X200X200

    500X300X200

    500X500X500

     溫度類別

    1000℃、1200℃、1400℃、1600℃、1700℃、1800℃

     控制度

    ±1℃

    溫度均勻度

    ≤1

    ≤1℃

    ≤1.5℃

    ≤2℃

    加熱元件

     

    根據溫度而定,采用電阻絲、硅碳棒、硅鉬棒、石墨。

    電壓/頻率

     AC/Hz

    220/50

    380/50

    380/50

    380/50

    設計功率

    KW

    4

    10

    15

    25

    溫控方式

     

    微電腦智能調節技術,具有PID調節、全自動控制、自整定功能,多段程序編程,并可編制各種升溫、保溫、降溫程序,控溫度高;集成模塊可控硅控制、移相觸發。

     保護裝置

    獨立超溫保護、超壓、超流、漏電、短路等保護,自動化程度較高,

    主要附件

    高溫手套,坩堝鉗,發熱元件,門堵,合格證,說明書,質保書。

     可選配

    無紙記錄儀,有紙記錄儀,電腦液晶觸摸屏,人機畫面
    通訊聯機功能,多臺設備臺電腦控制,打印與保存數據,實現操作簡單方便,實時可查看與保存數據。

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